磁體燒結石墨匣缽處理裝置方法
首先是磁體燒結石墨匣缽和處理裝置。所述的石墨匣缽包括多個側壁圍成的框體、第一底層和第二底層;所述框體和第一底層圍成空腔,其用于放置待燒結物料;第一底層和第二底層設置為二者能夠緊密貼合;第二底層以能夠自由抽取地方式設置在第一底層的下方;第一底層上設置有多個氣孔,第二底層上則不設置氣孔。采用本實用新型專利技術的石墨匣缽,不需要在高溫燒結后轉換容器就可以進行回火處理,并可以實現(xiàn)快速均勻冷卻。
釹鐵硼磁體是非常重要的工業(yè)原材料,其可以用于音響領域、電機領域、計算機領域等。釹鐵硼磁體的制備工藝包括燒結法和粘結法。通常認為,燒結法得到的釹鐵硼磁體性能更為優(yōu)異。為了進一步提高釹鐵硼
磁體的性能,其燒結過程通常包括高溫燒結和回火處理兩道工序。釹鐵硼磁體的燒結過程通常在真空燒結爐中進行。將釹鐵硼磁體原料置于石墨匣缽中,將石墨匣缽封閉,然后置于真空燒結爐進行燒結。通過等靜壓得到的釹鐵硼磁體毛坯在高溫燒結過程中隨著溫度的上升會釋放出氣體,這就要求石墨匣缽具有較好的密封性,以防止由石墨匣缽內溢出的氣體再次進入盒內對物料產生氧化。
燒結完成之后,需要對物料進行回火處理。快速均勻冷卻有利于得到一致性好且性能高的磁體。但是,由于傳統(tǒng)的石墨匣缽密封性好,無法滿足快速均勻冷卻的要求。因此,通常需要將高溫的物料倒入有孔洞的料盒內進行快速冷卻。因此,傳統(tǒng)的燒結過程工藝流程較長、操作安全性不高。因此,迫切需要一種石墨匣缽,其不需要在高溫燒結后轉換容器就可以進行回火處理,并可以實現(xiàn)快速均勻冷卻。
本技術的目的在于提供一種磁體燒結石墨匣缽,其不需要在高溫燒結后轉換容器就可以進行回火處理,并可以實現(xiàn)快速均勻冷卻。本技術的另一個目的在于提供一種磁體處理裝置,其可以縮短燒結過程的工藝流程,操作安全性得到顯著提高。本技術采用如下技術方案實現(xiàn)上述目的。本技術提供一種磁體燒結石墨匣缽,其包括多個側壁圍成的框體、第一底層和第二底層;所述框體和第一
一種磁體燒結石墨匣缽,其特征在于,所述的石墨匣缽包括多個側壁圍成的框體、第一底層和第二底層;所述框體和第一底層圍成空腔,其用于放置待燒結物料;第一底層和第二底層設置為二者能夠緊密貼合;第二底層以能夠自由抽取地方式設置在第一底層的下方;第一底層上設置有多個氣孔,第二底層上則不設置氣孔。

