高純石墨套管有二種品種---規范細密高純石墨套管和熱裂解鍍層的高純石墨套管。根本型高純石墨套管的兩邊刻著槽溝；這類高純石墨套管針對溶液和有機化學水溶液均可用。其間表層由許多纖細的管溝構成，這種管溝起著留存試液的功效。關于溶液和溶劑容許運用的試液容積各自超越125uL和50uL上下。最近出產制作的高純石墨爐可適用熱裂解鍍層高純石墨套管。這類高純石墨套管出示了剖析的資源優勢，非常是首要表現在管的運用壽命和某些難熔原素的剖析敏感度層面。但是，當測量揮發性原素或在精確測量帶有化學反應試件時，熱裂解鍍層高純石墨套管就沒有是多少優勢了。
    針對新的高純石墨套管，在用以剖析曾經應展開加溫處理。這類歸一化處理對策是以便去除高純石墨套管表層和高純石墨套管原材料里邊的殘渣。開端選用陡坡提溫至2700℃而無需環節式加溫，這種行為是可用的，非常是針對熱裂解鍍層高純石墨套管愈加有利。自此，應在2700℃下反復加溫高純石墨套管數次，每一次加溫時間為5s，直到處理守處理徹底。　
  　一般高純石墨套管的合理運用頻次為50～300次精確測量，它在于原子化時間、溫度、清潔氣旋水流量及試件特點。當高純石墨套管脆化時，精確測量的敏感度削減；而當敏感度下降至初值的20-25%下列時，應拆換新高純石墨防水套管。用脆化的水管還會使精確測量精密度削減。以便取得規范的和熱裂解鍍層的二種高純石墨套管的最多合理運用頻次，應選用盡或許低的原子化溫度和盡或許短的原子化時間。高過2700℃原子化溫度和長于10s的原子化時間對剖析根本上不是可用的。替代較高的溫度，應選用較低溫度下的功率方法。氣旋終斷時間至得到較大數據信號現已。如果數據信號剛開端下降，就應在相同溫度下展開下一個流程，但要用一切正常的氣旋總流量，直到超越精確測量基線漂移。