真空爐加熱石墨管的加熱原理：
        原理是將樣品用進樣器定量注入到石墨管中，并以石墨管作為電阻發熱體，通電后敏捷升溫，使試樣到達原子化的意圖由加熱電源、保護氣控制系統和石墨管狀爐組成。外電源加于石墨管兩頭，供應原子化器能量，電流經過石墨管產生高達3000℃的溫度，使置于石墨管中被測元素變為基態原子蒸氣。保護氣控制系統是控制保護氣的儀器啟動，保護氣Ar氣流轉，空燒結束，堵截Ar氣流。外氣路中的Ar氣沿石墨管外壁活動，以保護石墨管不被燒蝕，內路的Ar氣從管兩頭流向管中心，由管中心孔流出，以有用地除掉在枯燥和灰化過程中產生的基體蒸氣，一起保護已經原子化了原子不再被氧化。原子化階段，停止通氣，以延伸原子在吸收區內的平均停留時間，避免對原子蒸氣的稀釋.石墨爐原子化系統中，火焰被置于氬氣環境下的電加熱石墨管所代替。氬氣可避免石墨管在高溫狀態下敏捷氧化并在枯燥、灰化階段將基體組份及其它攪擾物質從光路中除掉。少數樣品（1至70mL,通常在20mL左右）被參加熱解涂層石墨管中。

       石墨管上的熱解涂層可有用避免石墨管的氧化，然后延伸石墨管的使用壽命。一起，涂層也可避免樣品侵入石墨管然后提高靈敏度和重復性。石墨管被電流加熱，電流的大小由可編程控制電路控制，然后在加熱過程中可按一系列升溫方法對石墨管中的樣品進行加熱，到達除掉溶劑和大多數基體組份然后將樣品原子化產生基態自在原子。分子的分解情況取決于原子化溫度、加熱速率及熱石墨管管壁周圍環境等因素。 
       真空爐現在能夠用于：電弧熔煉；釬焊；陶瓷燒制；晶體生長；熱處理，MIM,CVD,CVI；熱壓實驗室研討；粉末冶金；純化，脫脂；燒結；退火。
       真空爐中的石墨易耗部件進行規劃和加工配套，及提供上門指導安裝服務。一起能針對加熱部件的規劃及資料提出改善計劃，然后為您節省能源并延伸使用周期.

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